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一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法 | |
| 专利号： | 201510198408.9 | |
| 发明人： | 曹宇 | 李春林 | 魏鑫磊 | 何安 | 张健 | 朱德华 | 冯爱新 | |
| 专利权人： | 温州大学 |
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| 专利授权日： | 2016.11.02 | |
| 专利类型： | 发明专利 | |
| 简介
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| 本发明提供了一种激光束直写构造图形化磁性微纳结构的方法，包括如下步骤：(1)在基板表面至少平铺一层以上的磁性材料颗粒，之后施加可控磁场，使得磁性材料颗粒在基板表面按照磁场的磁力线有序排列；(2)利用激光束从基板的背面一侧入射扫描，激光束辐照处吸收激光能量而发生极速升温，使得基板背面被辐照的区域不发生熔化或薄层熔化；对应基板正面的磁性材料颗粒表面部分熔化，冷却后实现磁性材料颗粒与基板的焊接；(3)重复步骤(1)-(2)，实现多层、不同尺寸、有序的磁性微纳结构制备。该方法实现了图形化磁性微纳结构的制造，由于微纳结构的尺寸和图形可控，从而可以调控其表面超疏水、电磁波吸收和反射特性。 |
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